钛靶是磁控溅射工艺常用靶材，分为平面钛靶与钛旋转管靶两类，基材选用纯钛，牌号 TA1、TA2；纯度 3N～4N5 可选。平面钛靶一般绑定无氧铜背板，适配平板磁控溅射阴极；钛旋转管靶为空心圆筒结构，可钎焊在法兰式钛衬管外表面，用于大面积连续镀膜产线。氩离子轰击靶面可沉积金属钛膜；通入氮气、氧气，可反应溅射制备 TiN 氮化钛、TiO₂氧化钛功能薄膜。尺寸、厚度、安装孔及法兰结构均可按设备图纸定制。
材料特性与加工工艺
材料特性
钛熔点 1668℃，无磁性，不会干扰溅射磁场；耐蚀性能优良，塑性良好。
金属 Ti 膜：作为粘附层、扩散阻挡层，提升膜层与基底结合力；
TiN 氮化钛膜：金色硬质膜，耐磨、耐腐蚀；
TiO₂氧化钛膜：高折射率光学膜，兼具光催化特性。
制备工艺
1. 坯料制备：钛锭锻造、轧制，真空去应力退火，调控晶粒组织，减少溅射颗粒；
2. 精密机加工：平面靶进行铣削、靶面研磨抛光；管靶采用挤压、冷轧、外圆精车加工；
3. 绑定组装：平面钛靶采用铟焊绑定无氧铜背板；旋转管靶钎焊固定于衬管；
4. 后处理：超声洁净清洗、真空除气、探伤检测，降低镀膜起弧、颗粒缺陷。
核心优势
1. 支持 DC 直流溅射，溅射工艺稳定，膜层附着力优异；
2. 产品形态丰富，平面靶适合单片工件、小批量试制；旋转管靶适配大面积连续量产；
3. 可制备金属、氮化物、氧化物多种薄膜，应用覆盖多个行业；
4. 原料供应稳定，相较铌、铪等难熔金属，成本更可控。
产品局限
平面钛靶溅射区域集中在跑道区，靶材利用率偏低；钛在高温环境易吸氢、吸氧，坯料锻造、热处理需控制保护气氛。
典型应用
1. 装饰硬质镀膜：刀具、模具、卫浴五金，制备 TiN 金色耐磨防护膜；
2. 光学镀膜：镜片、滤光片，TiO₂多层光学膜；
3. 半导体与 PCB：金属粘附层、扩散阻挡层；
4. Low-E 建筑玻璃、汽车功能玻璃：功能薄膜；
5. 新能源：光伏器件、电池构件功能涂层；
6. 科研实验：薄膜材料研发试样。