锆靶材为磁控溅射镀膜用靶材，包含平面锆靶与锆旋转管靶两种结构，常用牌号 R60702（Zr702）、R60704；纯度可选 99.5%～99.99%，低铪高纯锆可按需定制。平面锆靶多为矩形或圆形，背面绑定无氧铜 / 钼背板，适配平板磁控溅射设备；锆旋转管靶为空心圆筒，可钎焊在法兰钛衬管上，用于大面积连续镀膜产线。氩离子轰击可沉积金属锆薄膜，通入氮气、氧气反应溅射，可制备 ZrN 氮化锆、ZrO₂氧化锆功能薄膜。外形尺寸、厚度、安装孔、法兰结构均可按图纸定制。
材料特性与加工工艺
材料特性
锆为难熔耐蚀金属，熔点 1852℃，塑性良好，常温耐酸碱腐蚀，材料无磁性，不会干扰溅射磁场。
金属 Zr 膜：粘附打底膜、扩散阻挡层、耐腐蚀基底膜；
ZrN 氮化锆膜：金色硬质涂层，耐磨、抗腐蚀；
ZrO₂氧化锆膜：高折射率光学膜，膜层致密稳定。
制备工艺
1. 坯料制备：锆锭锻造、轧制，真空去应力退火，调控晶粒组织，降低溅射产生颗粒；
2. 精密机加工：平面锆靶铣削、靶面研磨抛光；锆管靶挤压、冷轧、外圆精车，管控同轴度；
3. 绑定组装：平面靶采用铟焊或扩散焊绑定背板；旋转管靶钎焊固定在衬管外圆；
4. 后处理：超声洁净清洗、真空除气、探伤检测，减少镀膜起弧与颗粒缺陷。
核心优势
1. 支持 DC 直流溅射，反应溅射工艺稳定，膜层附着力佳；
2. 两种产品形态可选，平面靶适合单片工件、小批量打样；旋转管靶适配大板、卷对卷连续量产；
3. 可制备金属、氮化物、氧化物多种膜层，覆盖装饰、光学、防腐多个领域；
4. 膜层耐蚀性突出，在部分腐蚀工况下表现优于钛基薄膜。
产品局限
平面锆靶刻蚀仅集中在跑道区域，靶材利用率偏低；锆原料价格高于普通钛材，成本偏高；高温加工环境易吸氧，坯料热处理需做好气氛保护。
典型应用
1. 装饰硬质镀膜：卫浴五金、钟表、刀具，制备 ZrN 金色耐磨防护膜；
2. 光学镀膜：光学镜片、滤光片，ZrO₂多层高折射率光学膜；
3. 半导体微电子：器件扩散阻挡层、耐腐蚀保护膜；
4. 玻璃镀膜：Low-E 建筑玻璃、汽车功能玻璃功能层；
5. 精密构件防腐涂层：化工、精密零部件耐蚀薄膜；
6. 科研实验：薄膜新材料研发试样。